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高纯水设备助力半导体元器件品质提升
 
更新时间:2021-09-15 16:54 作者:本站 来源:本站  浏览量:61
 
高纯水设备助力半导体元器件品质提升
 水质提升保障半导体元器件品质
  在半导体生产中,高纯水被用于晶圆冲洗、化学品稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等许多场合,高纯水的品质与半导体的良品率直接相关。随着半导体元器件尺寸缩小与精细度上升,高纯水水质的技术要求不断提升,在超纯水的生产过程中,只要微粒子、电阻率、TOC以及气泡中一个指标出现略微差异,就会使半导体元器件生产的合格率下降。
  高纯水的生产自然需要用到超纯水设备。传统高纯水设备需要再生,不能连续产水,不仅效率低,而且浪费资源。高纯水设备采用靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除同时还能连续、稳定地生产高纯度的超纯水。在晶圆、电子芯片、集成电路、精密仪器、电镀涂装、试剂稀释、氟化工等领域多有应用。
  高纯水设备采用预处理、反渗透技术、高纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。高纯水系统设备的脱盐核心部件为反渗透膜组件,高纯水系统设备通常由预处理部分,反渗透主机部分,后处理部分共同组成。EDI处理装置废水产出量少,不会对环境造成污染,有非常高的环境效益、经济效益。精混床经过技术升级后,无需任何操作能够稳定运行两年,其出水水质能满足芯片生产用水的相关标准,降低企业生产的风险和成本。
 



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